11th
十一月
Endress + Hauser公司宣布,它与SAP公司合作,作为一个SAP研究中心在德累斯顿的未来工厂倡议的核心合作伙伴,帮助培养过程工业中的研究和发展。
在未来几个月内,两家公司将合作共同开发一个完全集成的远程服务管理方案基于SAP研究中心德累斯顿的Endress + Hauser的InfoServe有限责任公司+公司的发展专责小组,研究人员和金相显微镜设备的集成软件开发的原型KG和Endress + Hauser的过程解决方案公司。
这一突破性的解决方案将帮助世界各地的维修人员在工艺厂减少工厂停工时间和运营成本。设备制造商的服务部门将启用,以提高其服务的效率和速度。
恩德斯豪斯的智能测量仪器将成为全面启用智能设备,能够创建错误门票,通知或通过”植物接入点的警报 ,并安装基本配置和管理的服务管理中的应用以及相关服务流程处理数据传输。
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十一月
西门子工业自动化事业部推出的Sitrans LR560雷达液位变送器的操作在78 GHz频率。 SITRANS LR560是一个2线非接触式FMCW (频率调制连续波)显微镜雷达液位测量变送器的测量范围100米(328英尺) 。发射器发出一个狭窄的四度光束,从而避免了仓壁障碍物和其他安装干扰,允许它安装在料仓顶部的几乎任何地方。作为第一个雷达发射机工作在78 GHz频率,它会发出一个短休止的一个陡峭的角度甚至从固体提供出色的信号反射的波长。图形快速入门向导将引导用户无需任何额外的微调,准确和可靠的测量读数分钟的Sitrans LR560业务。
SITRANS LR560是与HART ,PROFIBUS – PA或基金会现场总线协议。支持本地编程按钮或红外手持编程。变送器与西门子SIMATIC PDM (过程设备管理) ,艾默生AMS ,或PACTware软件还支持远程配置和诊断使用西门子的DTM 。本地显示界面功能背光显示屏,可以旋转,方便职位。独特的显微镜透镜天线的材料具有很强的抗的积累和综合吹扫连接包括清洁分外粘固体材料。高频操作的目的是不必要的,但可选的瞄准法兰具体利益的领域,如放电面积的筒仓锥,有助于直接梁。
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十一月
摩尔定律,几乎没有一个法律,但不可否认的一个持久的趋势,他说,每一年半的时间,适合在一个芯片上的晶体管数量大约增加一倍。这是为什么电子产品 – 从智能手机到平板显示器,MP4播放器,电影摄影机,从片到超级计算机 – 成长比以往任何时候都更加多样,功能强大,结构紧凑,但也比以往任何时候都更便宜。无论对一成不变的法律性质,直到它运行的趋势能够继续,像一个原子的有限大小,取决于多远的科学家和技术人员可以推电子技术进入纳米世界更好的工具使用短波长的光。
现在在美国能源部劳伦斯伯克利国家实验室(伯克利实验室)部的科学家合作,在全球领先的半导体制造商,以创建世界上最先进的极紫外光(EUV)显微镜与同事。夏普(简洁的缩写为一个长的名字,高钠光化性半导体光罩审查项目),新的显微镜将致力于光刻,建立在计算机芯片的核心过程。
$ 4.1万,1.5年的项目将率领由午戈德堡X射线光学中心(CXRO)在伯克利实验室材料科学部(MSD)。最初夏普将在伯克利实验室的先进光源(ALS)的现有显微镜的光束11.3.2使用并行操作。到了2012年最后一个季度新EUV光罩成像显微镜将取代光束线的设施老化。
“EUV光源是棘手的工作,”戈德堡说,“因为每一个物质吸收如此强烈。所以EUV技术,而不是玻璃镜片,光学系统主要是依靠专门镜与原子尺度的平整度,淋上由多层膜高反射率,“为了保持效率,整个光学系统被放置在一个高真空环境。
虽然被称为在台协会(光化检查工具),现有的8岁的显微镜11.3.2在光束线,具有独特的成像能力,半导体技术的快速移动性是指它的未来是有限的。夏普将超过它的性能,在每个指标:分辨率,速度,照度均匀性和一致性,控制。夏普将使前瞻性研究几年前成为商业工具。
在短短几年内,半导体器件,将测得在16,11,或8纳米的尺寸,仅仅一米的十亿分。大规模生产这些产业是推动光刻过程中使用EUV光波长仅为13.5纳米,比可见光的40倍。
“戈德堡说,”在这个短的波长,我们可以打印和图像在纳米尺度的电路图案。 “新的显微镜将充分利用多年的尖端EUV和软- X射线显微镜的经验,实验系统在CXRO工程和EUV光学专业知识的光刻技术研究计划的一部分的发展。”戈德堡说,ALS,世界上最优秀的EUV光的来源之一,“是一个伟大的地方发展EUV光刻技术。”
光掩膜光刻技术,是大规模生产的关键。一系列光罩进行主电路模式,转移到一个芯片上,一层又一层,创建工作的半导体器件。面具是类似于在一个摄影师的暗房,或一台复印机上的母版页的底片。
分钟的不完善或主微小的尘埃颗粒,如果没有找到,并清洗或修复,最终导致芯片的失败。 Goldberg和他的团队已经表明,缺陷和模式时,可能会出现很大的不同看作非EUV技术检查工具,如电子显微镜,极紫外显微镜必不可少的EUV技术口罩的发展,因为只有这样,才能有害的尘埃粒子和其他缺陷确定可靠。
“其他显微镜可以有奇妙的高分辨率,但他们无法检测到的特定波长的EUV技术的面具图案和缺陷的回应,”戈德堡说,“并成功维修,这是必要的。”
夏普被称为“光化”显微镜,因为它使用相同的EUV技术在生产中使用的波长。因此,新的EUV显微镜将使半导体公司的研究人员更好地评估缺陷和修复策略,面具的材料和架构,以及先进的模式特征。
像它的前身,夏普显微镜也将采用一个镜头,并排数组,使用户可以选择他们所需要的不同的成像特性,就像一个共同的实验室的显微镜安装在一个旋转的炮塔不同的镜头。
新的显微镜高倍率物镜的全息菲涅尔zoneplate镜片,CXRO的Nanowriter生产的微观物体。 Nanowriter,埃里克安德森的指导下,拥有世界纪录,创造了许多同步和其他短波应用的最高分辨率zoneplates。镜头仅略高于一根头发广泛,但他们的项目高达2000倍的放大倍率的面膜表面的高品质图像。
一个新的显微镜的特殊功能,将照明一致性控制。 ALS的生产的EUV束激光般的连贯性,许多实验的理想选择。然而,显微镜,可提高图像分辨率仔细重整进入状态称为部分相干照明由两个因素。显微镜多年来已经认识到了部分相干的重要性,并同步社区现在赶上。
在新的显微镜的光束照明的角度,扫描镜将采取高度相干的ALS光,并带领模式,像一个微型激光灯光表演,打破和重新塑造的连贯性属性。这样,夏普显微镜将复制当前和未来的光刻技术的生产和研究工具的属性,让研究人员在最先进的看什么来。
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十一月
温度测量过程中的应用
的传感器 – 传感器和指示各种
温度探针的PT 100 / PT 1,000 / 1,000镍
或负温度系数(NTC)
单位 – 高精确度和灵活性感谢
2 – ,3 – 线或4线连接技术
– 大和明确LCDisplay的,强大的设计
– – 2每个探测
点的可调高精度模拟输出( U和I )
– 2点的控制,包括。继电器输出230V
温度控制或报警
– 直观的菜单结构 – 密码保护系统
的可扩展的模拟输出
– 安装简单
传感器系统TempMaxx
TempMaxx传感器系统是一个极其灵活的显微镜测量仪器系列PT 100 , PT 1’000 ,镍1’000或NTC传感器的各种温度探头连接。该系统是在工业部门,以及在暖通空调(空调)领域的各种工艺应用的理想选择。根据不同的探头(不包括在供货范围内) ,而且在液体或固体材料,同时也为表面气体的温度可以被检测出来。作为连接技术2 – , 3 – 线或4线技术都可以使用。
具有直观menue结构,使用仪器前的3个按键,设备配置和适应所需的需求。模拟输出的电流或电压(平行)可自由缩放和允许连接的控制单元的理想和灵活的适应。 TempMaxx可以调整2个温度点所连接的探头。集成2点控制系统(1继电器触点) ,可作为控制器或报警,并完成该仪器的
应用领域的多方面的功能:
在温度测量气体,固体,液体等在工业生产过程和空调装置。以及在洁净室。典型的行业是造纸,纺织等行业也仓库,实验室和校准室等。
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十一月
H2scan公司宣布推出他们的新防爆HY – OPTIMA 2700线的过程氢监视器,本公司最强大的分析仪。 2700的设计,主要是在石油和天然气,氢的生产和其他化学工业危险的环境中。
我们新的2700模式是我们市场领先的HY – OPTIMA厂房纳入产品线,我们最先进的的功能和UL认证。这些新功能是指在一个安全的工作环境,为我们的客户,更便宜的产品外形说H2scan,Lakhotia维卡斯工程技术的副总裁。
HY – OPTIMA 2700分析仪茎H2scanATEX认证的HY – OPTIMA成功的石油精炼设施吗 1700分析器,可作为一个独立的仪器,或作为一个完整的,集成过程系统的一部分。该设备是没有防爆分析仪住房的需要,是唯一的显示器,提供了10年的预期寿命。它没有消耗或移动部件因H2scan固态传感技术,并结合在一个芯片显微镜上检测和测量从低浓度高达100%。 2700包括一个先进的信号处理更快的微处理器,提高了数据的日志容量方便地实现一年和远程控制。
H2scan的HY – OPTIMA 2700实时氢的具体过程分析仪是专为易用性,界面的灵活性和真正的过程控制。 HY – OPTIMA 2700使用了固态传感器,配置操作过程气体流。 2700分析仪产品线包括模型,可以准确地测量过程气体流量的一氧化碳(CO)和硫化氢(H2S)量高达10%至20%的氢。 HY – OPTIMA 2700氢生产,炼油和石化的实时测量可以提高工艺厂的效率,诊断和维护管理的应用场合的理想选择。
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十一月
液化天然气接收站,发电厂,市政水的海水淡化厂
尔湾,加利福尼亚的理想, 新的模式DCA – 23海水电化学装置(ECD)的脱氯分析仪是一种低维护测量解决方案,无需化学品监测海水中氯含量的工业过程和市政水处理应用广泛,准确。
海水hasmultiple过程工业用途,包括液化天然气接收站,石油/天然气炼油厂,发电厂和热交换系统社会福利咨询委员会系统(咸水空调)在商业楼宇。显微镜海水淡化厂也氯化和脱氯waterbefore处理。海水氯化抑制海洋生物对各种过滤器,屏幕和换热器表面的增长,但前原水供应排入海水必须因环境原因而脱氯。
DCA – 23是一个单一用途的分析仪,监测海水0.0to 2.00 ppm的氯。它具有经济,低维护设计,无需化学品。措施的pH值,温度和海水总残余氧化剂(TRO),并把它们转换成等价的PPM氯的价值,这是显示符合现有公约。其特点是0.014 ppm的最低检测限(MDL)和0.044 ppm的定量限(LOQ)的限制,使得DCA – 23分析仪适用于在最严格的脱氯法规环境监测。
DCA – 23的特点有三个传感器,pH值,禁制令和温度。从0-14 pH值,± 1500 mV的禁制令传感器测量和温度传感器测量从0到100 C。pH值传感器措施其三参数监护DCA – 23,是理想的海水氯分析仪的广泛应用。
在液化天然气接收站再气化过程中,大量的氯处理过的海水用于加热液化天然气热交换器。海水逐渐提高冷液化天然气的温度变化成气体从压缩流体通过服务管道分布。回收的海水脱氯监测与DCA – 23的要求。
发电厂的蒸汽驱动涡轮产生在世界许多地方的电力。显微镜海水冷却系统采用热和核电厂在沿海地区。海水流经热交换器和凝结的蒸汽用于驱动涡轮机。冷却与氯化的海水,这就要求监测与DCA – 23出院前完成。类似的热交换过程是利用石油/天然气炼油厂。
在海水淡化厂,海水处理byreverse反渗透(RO)除去盐。进海水处理与氯杀藻和其他生物的前反渗透过程。所以之前,必须先接触膜脱氯氯化海水反渗透膜氯降解。 DCA – 23是理想的监控脱氯过程
DCA – 23海水脱氯分析仪是提供五种配置:。。1)回路供电,4-20毫安= 0.00至2.00 ppm的氯; 2)24VDC供电两个4-20 mA输出,氯离子和pH值; 3)24VCD供电两个4-20 mA输出和两个报警继电器; 4。 )110 VAC供电;两个4-20 mA输出和两个报警继电器和5),220伏供电两个4-20 mA输出和两个报警继电器。最大系统压力和温度等级为50 PSIG在60 C。
DCA – 23海水脱氯分析仪是一种易于安装垂直和播放设备,作为一个完整的统一支柱机架安装系统时,它是也可作为单独的组件。机架安装系统的探测与¾?安排80管,输入和漏滑配件。的T – 23分析仪,2个传感器,pH值的流动细胞和禁制令流通池,机架安装使用1⅝X1⅝统一支柱铁路。
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十一月
技术专家宝得介绍型8021脉冲分配器的继任者,以及该类型的8023流量变送器。单片机驱动的显微镜电子产品,新的8022型这两种功能结合在一个单一的设备,从而代表一个灵活而强大的除了行之有效并深受信赖的宝得流量传感器。
8022型流量变送器和脉冲分配器是一个电子模块,可以显示和进一步处理的流量测量传感器类型8020,8030或8070。紧凑型设备上直接安装传感器,它转换成标准信号作进一步处理的传感器脉冲的顶部,可以节省空间,例如,通过控制系统。传感器和变送器之间的连接布线和文档的额外费用变得不必要的。根据型号不同,流量变送器/脉冲分频器配备可移动的控制单元与显示。这显示设备上的可选单位的实测流量作为流量变送器,传感器,分辨率约的频率信号时,允许参数设置
最佳的连接兼容性
灵活适应。 10位转换成4 20 mA信号(2线操作)。如果类型8022作为脉冲分压器使用,它可以将输入频率可调的输出频率介于1 600赫兹(3线操作)。与控制单元,用户可以方便快捷地改变两者之间的操作模式这意味着,随时有可能在一个最佳的功能和连接兼容性的灵活适应。
8022有了新的类型,宝得是提供一个单一的设备之间的直接流量传感器的电流或脉冲输出的选择。电气连接的类型可以是通过电缆密封管或M12连接。可选的显示/操作模块,可用于配置和流动显示提供额外的灵活性。
数据和事实
流量变送器/脉冲分配器,8022
工作电压:12 30 V直流
工作温度:-10至60 C
4 20 mA输出
的NPN / PNP输出:1 600赫兹,集电极开路,最大 50毫安
电气连接:电缆压盖或M12连接器
防护等级:IP65
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十一月
严格的品质,坚固耐用的设计和创新技术?这是新开发的高档相机系列ImageIR ® InfraTec模型主张。 (锑化铟, MCT和量子阱)不同类型和不同格式的冷却焦平面阵列光子探测器( (320 × 256 )和( 640 × 512 ) )红外像素在快照模式下工作的使用,也可以达到极其高帧速率(高达4500赫兹) ,也捕捉丝毫的温度差异小于20 mK的。热成像系统已设计为在研发领域的高要求苛刻的应用,非破坏性材料测试,以及过程控制
一个均衡的范围涵盖互换精确的辐射红外镜头长焦镜头领域,标准镜头,广角镜头以及macroscope和显微镜镜头。再次,允许通过的视野,几乎每个测量情况。所有多变的状态的最先进的标准ImageIR ®光学上可与配备马达的重点单位。它可以精确,远程控制和快速电动对焦,是一个可靠的自动对焦功能的一部分。由于显微镜镜头的多样性可以采取的电气组件和部件的详细图像,即使从较大的测量距离可达5微米的像素大小。
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十一月
系统专家ELMA电子有限公司,总部设在普福尔茨海姆德国,丰富其产品范围由两个非常有用的改进。从现在起,所有类型的39系列系统配备了一个新的风扇控制器和一个新的系统监控可选串行
新系统监控过程中,如TCP / IP协议, HTTP , TFTP, SNMP V2 , DHCP和协议的Telnet是什么,使用户可以控制通过远程访问系统。可检索系统或特殊电压,温度和风扇速度值?事件吗? ?可以设置。
有了新的风扇控制器,许多系统设置,到目前为止,不得不采取静态现在可以预设。由于集成的微控制器,用户可以定义温度调节,通风自动启动功能通过串行接口和时间。被控制的值很容易通过I2C或串行接口访问。此外,它可以激活风扇控制器的数字温度传感器或连接一台液晶显示器和可视化系统的当前温度和风扇速度。
在这些升级的同时,该公司将启动一个特殊的金相显微镜销售活动,是在一个非常有利的的价格提供各种CompactPCI的系统类型的39系列。进入此优惠包括所有的系统都已经配备了新的风扇控制器。系统监视器,可以添加可选。
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